中金發(fā)布研究報(bào)告稱(chēng)，光伏電鍍銅兼顧降本和提效，可用于HJT/TOPCon/BC等路線，該行預(yù)計(jì)在N型時(shí)代有望成為金屬化的主流路線之一。電鍍銅目前正處于0到1階段，該行估計(jì)2023年有望進(jìn)入中試密集期，2024年有望進(jìn)入小批量量產(chǎn)期，2025年后有望進(jìn)入滲透率上升期，建議投資者把握電鍍銅設(shè)備股機(jī)會(huì)。

中金主要觀點(diǎn)如下：

(資料圖)

產(chǎn)業(yè)背景：解決稀有金屬“銀”高耗量瓶頸，電鍍銅技術(shù)恰逢其時(shí)。

N型時(shí)代銀漿成本高昂成為產(chǎn)業(yè)核心瓶頸，據(jù)該行測(cè)算，到2022年底，TOPCon/HJT銀漿成本約為0.08/0.16元/W，占電池非硅成本達(dá)38%/54%。隨著光伏終端裝機(jī)需求的持續(xù)增長(zhǎng)，稀有金屬“銀”的高耗量或成為制約產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要瓶頸，電鍍銅工藝可以徹底解決光伏對(duì)這一稀有金屬的依賴(lài)，發(fā)展該技術(shù)具有戰(zhàn)略意義。此外，電鍍銅在提效和組件成本節(jié)約上也有顯著優(yōu)勢(shì)。

技術(shù)路徑：種子層制備+圖形化+電鍍及后處理三大環(huán)節(jié)，技術(shù)路徑尚未統(tǒng)一。

1)種子層制備：改善柵線與TCO膜之間的附著特性和電性能，目前主流方法為PVD制備。2)圖形化：在掩膜上形成柵線圖形，便于后道工序?qū)崿F(xiàn)銅柵線的選擇性電鍍，包括掩膜、曝光、顯影等工序，每個(gè)環(huán)節(jié)均存在較多技術(shù)路徑。3)電鍍及后處理：在掩膜開(kāi)槽部分完成銅電鍍，然后去除掩膜和種子層。目前電鍍環(huán)節(jié)的產(chǎn)能和良率提升是電鍍銅整體工藝的關(guān)鍵難點(diǎn)。

成本測(cè)算：不僅在于金屬化環(huán)節(jié)的降本，提效和組件端優(yōu)勢(shì)也應(yīng)重視。

電鍍銅技術(shù)可大幅節(jié)約漿料用量，瓶頸在于掩膜、藥水、設(shè)備成熟度，該行估計(jì)，電鍍銅初步量產(chǎn)后，良率95%的背景下，電鍍銅環(huán)節(jié)的總成本為0.13元/W左右(含人工水電)。應(yīng)當(dāng)重視的是，該行認(rèn)為除金屬化環(huán)節(jié)的降本，電鍍銅增效潛力有望帶來(lái)組件銷(xiāo)售溢價(jià)(效率提升)和組件端成本(焊帶等)節(jié)約。

市場(chǎng)空間：電鍍銅技術(shù)蓄勢(shì)待發(fā)，設(shè)備空間放開(kāi)有望。

該行估計(jì)當(dāng)前的設(shè)備價(jià)值量單GW大約在1.5~2億元。該行預(yù)計(jì)未來(lái)導(dǎo)入量產(chǎn)后可以降低到1億元/GW(2026年)。分設(shè)備來(lái)看：該行估計(jì)當(dāng)前曝光機(jī)PVD約為5000萬(wàn)元/GW左右，曝光機(jī)大約在3000~5000萬(wàn)元/GW，電鍍機(jī)大概在6000萬(wàn)元/GW，此外還有其他設(shè)備如顯影機(jī)、刻蝕機(jī)等等。該行預(yù)測(cè)電鍍銅設(shè)備2023~2026年市場(chǎng)空間分別為6/15/54/127億元，CAGR為178%。

風(fēng)險(xiǎn)提示：新技術(shù)驗(yàn)證、設(shè)備價(jià)格過(guò)高、環(huán)保相關(guān)政策風(fēng)險(xiǎn)。

關(guān)鍵詞： 稀有金屬 蓄勢(shì)待發(fā) 設(shè)備空間